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Rolith公司突破性金属网格电极技术助力显示屏发展

2013-08-12 14:58
夜隼008
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  Rolith公司是高级纳米设备开发的领导者,日前宣布成功展示了采用破坏性毫微光刻方法(滚动掩模光刻–RML(TM))的金属网格电极技术。

  我们看到用于消费电子市场的触摸显示屏出现了爆炸性增长。到目前为止,ITO(铟钛氧化物)材料是用于透明电极的标准解决方案。除了成本过高和材料供应有限之外,它还存在其他问题:这种材料的高反射率降低了对比率、光学性质极快降级至50Ω/?以下,从而限制了使用ITO生产而不使性能降级的显示屏大小。

  ITO的唯一可行替代材料(和大型触摸显示屏的唯一解决方案)是金属线网格。对金属线网格的要求是人眼无法看到,这意味着线宽要小于2微米。此外,窄线有助于应对摩尔效应,金属线网格的叠加和显示屏的像素结构会造成这一效应。

  Rolith公司采用了名为滚动掩模光刻(RML(TM))的专利毫微光刻技术,以制造用于大型基材的透明金属线网格电极。RML基于近场连续光学光刻,使用圆柱相掩模进行操作。

  玻璃基材上的透明金属电极以亚微米宽纳米线的形式制造,以数十微米的间隔光刻到规则的2维网格图案,厚度为几百毫微米。经过检测,人眼无法看到此类金属结构,极为透明(超过94%的传递),雾度极低(~2%),同时电阻率低(<14Ohm/?)。这组参数使得Rolith技术领先于ITO替代技术的所有主要竞争技术。

  第2代RML工具能够制造最多1m长的基材。今年早些时候制造的工具已被用于展示这一技术。

  “Rolith仅在几个月前推出其透明金属网格电极应用开发,我们对目前达到的结果感到非常兴奋。我们相信,我们的突破性技术将为移动设备和大格式显示屏、监视器和电视带来经济高效的高质量触摸屏。目前,Rolith正与一些触摸显示屏制造商讨论有关合作事项,预计在未来1年内将技术商业化。我们的路线图还包括于2014-2015年将这一技术用于柔性基材。”公司创始人兼首席执行官BorisKobri博士表示。他补充道:“Rolith将在国际触控面板暨光学膜展会(“TouchTaiwan2013”)和2013年美国印刷电子展览会上展出其突破性技术。”

声明: 本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

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