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彭俊彪:AMOLED技术面临的问题和发展趋势

导读: 在同期举办的“OFweek中国新型显示技术及应用研讨会”分论坛中,华南理工大学材料学院院长彭俊彪教授发表了“AMOLED技术面临的问题和发展趋势”主题演讲。

  OFweek显示网讯:2016年11月17日,由OFweek中国高科技行业门户和智慧生活网联合主办的“2016中国高科技产业大会”于深圳盛大召开。在同期举办的“OFweek中国新型显示技术及应用研讨会”分论坛中,华南理工大学材料学院院长彭俊彪教授发表了“AMOLED技术面临的问题和发展趋势”主题演讲,详细分析了目前AMOLED面临的诸多难题。

  在演讲中,彭俊彪教授首先介绍了AMOLED技术的最新进展情况。他表示:“相对于LCDOLED具有高画质、超薄、低成本、柔性、高对比度以及低能耗等优势,具有健康护眼的特色,预计2018年将量产柔性OLED显示器。从总体趋势来看,OLED发展越来越快,韩国LG已生产65英寸OLED曲面电视越来越普及,韩国三星生产的OLED智能模组逐渐对大陆开放。国内上海和辉、上海天马、昆山国显、信利半导体(惠州)等已建成OLED生产线。”

  虽然说OLED前景一片光明,但是彭俊彪教授也指出:“目前OLED仍面临着总体良率偏低、成本高、盈利相对比较困难的难题。发展大面积印刷材料与低成本制备技术,有望成为有效解决途径。”

  接下来,彭俊彪教授针对印刷技术、蓝光材料、喷墨打印工艺过程、喷墨打印工艺中的瓶颈问题、打印点成膜(PFSO)、打印点成膜浓度影响、打印线型薄膜基板调控、R/G/B发光材料体系的选择、墨水体系等具体问题进行了详细分析。

  对于AMOLED技术发展,彭俊彪教授最后总结道:“喷墨打印技术中可溶性发光材料性能及墨水配制是关键;线性像素具有良率高,可实现高分辨率的特点。”

  更多精彩内容,敬请关注OFweek显示网后续专题报道!

责任编辑:TD
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