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主流触摸屏制作工艺:黄光制程问题全解析

导读: 作为目前最为主流的触摸屏制作工艺,黄光制程被普遍应用在触摸屏厂商的生产过程中。其实黄光制程在生产过程中,操作人员会遇到各种各样的问题,本文将就根据生产过程中遇到的问题及解决办法整理成集,以供参考。

  作为目前最为主流的触摸屏制作工艺,黄光制程被普遍应用在触摸屏厂商的生产过程中。其实黄光制程在生产过程中,操作人员会遇到各种各样的问题,本文将就根据生产过程中遇到的问题及解决办法整理成集,以供参考。

  PHOTO 流程?

  答:上光阻→曝光→显影→显影后检查→CD量测→Overlay量测

  何为光阻?其功能为何?其分为哪两种?

  答:Photoresist(光阻).是一种感光的物质,其作用是将Pattern从光罩(Reticle)上传递到Wafer上的一种介质。其分为正光阻和负光阻。

  何为正光阻?

  答:正光阻,是光阻的一种,这种光阻的特性是将其曝光之后,感光部分的性质会改变,并在之后的显影过程中被曝光的部分被去除。

  何为负光阻?

  答:负光阻也是光阻的一种类型,将其曝光之后,感光部分的性质被改变,但是这种光阻的特性与正光阻的特性刚好相反,其感光部分在将来的显影过程中会被留下,而没有被感光的部分则被显影过程去除。

  什幺是曝光?什幺是显影?

  答:曝光就是通过光照射光阻,使其感光;显影就是将曝光完成后的图形处理,以将图形清晰的显现出来的过程。

  何谓 Photo?

  答:Photo=Photolithgraphy,光刻,将图形从光罩上成象到光阻上的过程。

  Photo主要流程为何?

  答:Photo的流程分为前处理,上光阻,Soft Bake, 曝光,PEB,显影,Hard Bake等。

  何谓PHOTO区之前处理?

  答:在Wafer上涂布光阻之前,需要先对Wafer表面进行一系列的处理工作,以使光阻能在后面的涂布过程中能够被更可靠的涂布。前处理主要包括Bake,HDMS等过程。其中通过Bake将Wafer表面吸收的水分去除,然后进行HDMS工作,以使Wafer表面更容易与光阻结合。

  何谓上光阻?

  答:上光阻是为了在Wafer表面得到厚度均匀的光阻薄膜。光阻通过喷嘴(Nozzle)被喷涂在高速旋转的Wafer表面,并在离心力的作用下被均匀的涂布在Wafer的表面。

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