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应用材料公司:深耕中国市场 推动平板显示技术向前发展

2014-03-28 11:36
来源: 显示网

  回顾国内平板显示行业的10年发展,无论是此前CRT、PDP与LCD之争,还是现在新型显示技术OLED与液晶技术之争,我们都可以看到新技术正逐渐涌现。"显示器行业正处在技术变革和需求变革的时代。"应用材料公司平板显示CVD产品事业部总经理肖劲松这样讲道。

  其实我们在各大重量级的展会上,如美国的CES,德国的IFA等等都可以感受到显示技术发展之迅速。而2014年CES展会上曲面、4k、OLED成为关注的焦点。当1080P正在逐渐走向主流时,4K显示时代又悄然来临,与此同时8K显示又跃跃欲试。这些现象归结在于人们对更高视觉体验的追求一直没有停歇,我们正在迎接一个高解析度显示时代。为应对全新的技术挑战,客观上需要面板厂商与上游设备和材料供应商紧密合作。

  应用材料公司作为全球最大的半导体设备及服务供应商,同时在显示器领域不断开发新技术,推动显示技术走向未来。由于在平面显示器制造电浆强化化学气相沉积(PECVD)技术领域的突出贡献,应用材料荣获了2013年度IEEE企业创新奖。IEEE是全球最大的专业协会,以促进人类科技跃进为宗旨。3月20日,应用材料公司平板显示CVD产品事业部总经理肖劲松以及PVD产品事业部研发总监Marcus Bender博士为我们分享了应用材料公司在高解析度显示时代的TFT和TFE解决方案。

  一、金属氧化物TFT解决方案

  金属氧化物对于设备稳定性及显示色差(Mura)要求比较高,同时金属氧化物主要应用在高清晰度的移动设备和OLED TV上面,对于颗粒度要求更高,需要通过颗粒度的控制来提高良品率。

  应用材料公司的CVD采用双层膜结构,在传统氮化硅基础上采用二氧化硅膜层。二氧化硅含氢量比较低,这样就能达到很好的均匀性。而在PVD方面通过提升IGZO的膜厚以及均匀性,同时采用地颗粒度的系统设计,来避免金属氧化物色差(Mura)的产生。正是基于在CVD及PVD方面的独特工艺与设计,目前全球主要的厂商都采用应用材料公司的设备。

  具体来讲,CVD采用空心阴极梯度递减技术(HCG),在大面积玻璃表面形成均匀的等离子体,保证大规模化学沉积的均匀性。另外采用自上而下的RPSC工艺(远程等等离子体清洗),提升均匀性。通过这些设计,可以达到第十代的膜厚均匀性。而在PVD方面,相对于传统工艺来说,采用了旋转阴极的解决方案。旋转靶可以增加气流均匀性,对于膜层均匀性提升有很大的帮助。同时旋转靶能够使结瘤和再沉积最小化,相对于传统平面靶在缺陷控制上有很大的提升。

  二、LTPS(低温多晶硅)TFT解决方案

  高分辨率移动显示时代,随着相似体积的减小,OLED和LCD屏幕都需要采用双电容技术。对于CVD及PVD均匀性和低颗粒度特性都提出了新的要求。应用材料公司是业界唯一一家能够提供从5.5代、6代到8.5代生产设备解决方案的企业。在PVD均匀性方面,应用材料公司在2013年为10%到8%,2014年达到5%,2015年将达到3%。

  在CVD方面2014年将重点研发锁阀门减震及零冲击狭缝阀技术,来尽可能降低震动带来的副产物沉积。而在PVD方面,继续优化薄膜均匀性。通过摇摆和SSM(定向对角溅射)、切角加工实现边缘无膜区、材料分段数等方式来提高薄膜的均匀性。

  三、薄膜封装解决方案

  OLED薄膜封装对于更可靠、柔软的阻隔层,减少颗粒,边缘阶梯覆盖及MASK对准精度提出新的挑战。为此,应用材料公司提出全新的全CVD膜系结构。在薄膜封装过程中采用氮化硅做阻水层提高阻水性;采用光学对准掩膜板保证出片率;采用并行流程提高开机率。

  另据应用材料中国区销售经理方甦棣介绍,2013年中国占全市电视机市场的26%,同时中国智能手机也占全球32%。中国正在成长为全球最大的显示屏生产国以及显示产业投资国,并且对于新型显示技术的研发和接受度逐渐提升。应用材料公司已在国内市场深耕30年,具有很好的"本土化"优势,也将与中国客户更加紧密合作,加速新技术导入与新产品上市。

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